水中邻苯二甲酸酯污染现状及高级氧化降解技术研究

doi:10.11894/1005-829x.2011.31.(4).05

工业水处理 ›› 2011, Vol. 31 ›› Issue (4): 5-10. doi: 10.11894/1005-829x.2011.31.(4).05

水中邻苯二甲酸酯污染现状及高级氧化降解技术研究

王军良¹, 徐超¹, 庄晓伟², 刘维屏¹

1. 浙江工业大学生物与环境工程学院, 浙江杭州310032;
2. 浙江省林业科学研究院浙江省森林资源生物与化学利用重点实验室浙江杭州310023

收稿日期:2010-12-21 修回日期:2010-12-21 出版日期:2011-04-20 发布日期:2011-04-13
作者简介:王军良(1978- )，2004 年毕业于浙江工业大学，硕士，讲师，电话：0571-88320355，E-mail：upupwang@zjut.edu.cn
基金资助:
浙江省科技厅公益技术研究发展项目(2010C33060)

Research on the present pollution situation and advanced oxidation degradation of phthalate esters in water

Wang Junliang¹, Xu Chao¹, Zhuang Xiaowei², Liu Weiping¹

1. College of Biological and Environmental Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310032, China;
2. Zhejiang Provincial Key Laboratory of Biological and Chemical Utilization of Forest Resource, Zhejiang Forestry Academy, Hangzhou 310023, China

Received:2010-12-21 Revised:2010-12-21 Online:2011-04-20 Published:2011-04-13

摘要/Abstract

摘要：

介绍了邻苯二甲酸酯(PAEs)的来源、毒性以及防治措施。对我国部分水源水和自来水厂出水中邻苯二甲酸酯的污染现状进行了调查,针对其在水环境中浓度低、毒性大的特点,对处理该物质最有效的高级氧化技术——化学氧化和光降解技术研究的进展及其降解机理进行了综述。

关键词: 邻苯二甲酸酯, 化学氧化, 光降解技术

Abstract:

The sources，toxicity and the pollution control measures of the phthalate esters are introduced. The present pollution situation of phthalate esters in some water sources and the effluent water from waterworks in China are investigated. Aiming at the characteristics of its low concentration and high toxicity in the water environment，the research progress and degradation mechanisms of the most effective and advanced oxidation processes - chemical oxidation process and photodegradation process for treating such substances， are summarized.

Key words: phthalate esters, chemical oxidation, photodegradation technology

中图分类号:

王军良, 徐超, 庄晓伟, 刘维屏. 水中邻苯二甲酸酯污染现状及高级氧化降解技术研究[J]. 工业水处理, 2011, 31(4): 5-10.

Wang Junliang, Xu Chao, Zhuang Xiaowei,Liu Weiping. Research on the present pollution situation and advanced oxidation degradation of phthalate esters in water[J]. INDUSTRIAL WATER TREATMENT, 2011, 31(4): 5-10.

https://gyscl.magtechjournal.com/CN/Y2011/V31/I4/5

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