化学法处理高浓度含钒碱性工业废水

doi:10.11894/1005-829x.2009.29.(7).51

工业水处理 ›› 2009, Vol. 29 ›› Issue (7): 51-53. doi: 10.11894/1005-829x.2009.29.(7).51

化学法处理高浓度含钒碱性工业废水

曾小明^{1, 2}, 李凌璞¹, 舒晖¹, 赵坤¹, 司士辉¹

1. 中南大学化学化工学院, 湖南长沙 410083;
2. 湖南省产品质量监督检验所, 湖南长沙 410007

收稿日期:2009-03-21 修回日期:2009-03-21 出版日期:2009-07-20 发布日期:2010-10-01
作者简介:曾小明(1968- ),1989年毕业于湖南大学,高级工程师,副主任.E-mail:zengxiaominglove@sina.com
基金资助:
国家自然科学基金资助项目(20475065)

Chemical treatment of highly concentrated vanadium-containing industrial wastewater

Zeng Xiaoming^{1, 2}, Li Lingpu¹, Shu Hui¹, Zhao Kun¹, Si Shihui¹

1. School of Chemistry and Chemical Engineering, Central South University, Changsha 410083, China;r
2. Product Quality Supervising Examination Institute of Hunan Province, Changsha 410007, China

Received:2009-03-21 Revised:2009-03-21 Online:2009-07-20 Published:2010-10-01

摘要/Abstract

摘要：

针对高浓度含钒碱性工业废水的特点,经多次比较试验得出最佳处理方法:还原—中和—絮凝法.详细探讨了还原剂用量、还原反应的最佳pH、还原反应时间、中和沉淀过程的pH、助凝剂等因素对废水中钒残留量的影响.实验结果表明,在最优实验条件下,处理后废水中钒<0.001g/L,出水达到国家废水排放标准.

关键词: 钒, 还原, 中和, 絮凝剂, 废水处理

Abstract:

Aiming at the characteristics of the highly concentrated vanadium-containing industrial wastewater，the best treatment method，reduction -neutralization-flocculation process has been obtained by means of many comparison tests.The effects of the factors， such as the dosage of reducing agent，the best pH of reductive reaction，reductive reaction time，pH of neutralization and precipitation，coagulant aids etc.on the residual vanadium in wastewater are discussed in detail.The results show that under the optimal conditions，the vanadium-content in the treated water is below 0.001 g/L，and the effluent water reaches the national wastewater discharge standard.

Key words: vanadium, reduction, neutralization, flocculants, wastewater treatmen

中图分类号:

X703.1

曾小明, 李凌璞, 舒晖, 赵坤, 司士辉. 化学法处理高浓度含钒碱性工业废水[J]. 工业水处理, 2009, 29(7): 51-53.

Zeng Xiaoming, Li Lingpu, Shu Hui, Zhao Kun, Si Shihui. Chemical treatment of highly concentrated vanadium-containing industrial wastewater[J]. INDUSTRIAL WATER TREATMENT, 2009, 29(7): 51-53.

https://gyscl.magtechjournal.com/CN/Y2009/V29/I7/51

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