高级氧化体系中自由基模拟的研究进展
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黄金晶,沈芸,钱雅洁
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Research progress on radical simulation in advanced oxidation processes
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Jinjing HUANG,Yun SHEN,Yajie QIAN
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表1 自由基准稳态模拟的应用研究
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Table 1 Application of radicals simulation based on pseudo-steady-state model
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| 体系 | 计算机程序 | 预测的自由基种类 | 参考文献 |
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| UV/H2O2 | — | ?OH | 〔8，14〕 | | UV/PS | — | ?OH和SO4·- | 〔17-18，20〕 | | UV/氯 | — | ?OH、·Cl、Cl2·-、ClO· | 〔26-27〕 | | UV/氯 | Kintecus | ·Cl、Cl2·-、ClO· | 〔34〕 | | UV/氯 | Simbiology | ·Cl、Cl2·-、ClO· | 〔35〕 | | 热活化过硫酸盐 | — | ?OH和SO4·- | 〔19〕 | | UV/H2O2 | Kintecus | ?OH | 〔10，36〕 | | UV/PS | Kintecus | ?OH、SO4·-、RHS | 〔10，36〕 | | UV/H2O2 | Gepasi | ?OH | 〔9〕 | | UV/PS | Gepasi | ?OH、SO4·-、CO3·- | 〔9〕 | | UV/H2O2 | Simbiology | ?OH | 〔32〕 | | UV/PS | Simbiology | ?OH和SO4·- | 〔32〕 | | UV/NH2Cl | Simbiology | ·NH2和·Cl | 〔33〕 |
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